【单选题】【消耗次数:1】
可以作为高8位地址线的是____。
P0口
P1口
P2口
P3口
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【单选题】 P0口作数据线和低8位地址线时 。
①  应外接上拉电阻
②  不能作I/O口
③  能作I/O口
④  应外接高电平
【判断题】 8051单片机的P1口可作为高8位地址总线使用。
①  正确
②  错误
【判断题】 P2口既可以作为I/O使用,又可以作地址/数据复用口使用。
①  正确
②  错误
【判断题】 8051单片机的P0口可作为低8位地址总线使用。
①  正确
②  错误
【判断题】 51单片机的P0口既可以做数据口线又可以做为地址口线
①  正确
②  错误
【单选题】 单片机的P0、P1口作输入用途之前必须 ____。
①  在相应端口先置1
②  在相应端口先置0
③  外接高电平
④  外接上拉电阻
【单选题】 单片机的P0、P1口作输入用途之前必须。
①  在相应端口先置1
②  在相应端口先置0
③  外接高电平
④  外接上拉电阻
【单选题】 8051单片机的P2口除作为输入/输出接口使用外,还可以作为____使用。
①  低8位地址总线
②  高8位地址总线
③  数据总线
④  控制总线
【判断题】 P0端口在作为地址总线使用时,提供的是高8位地址。
①  正确
②  错误
【判断题】 8051单片机的P2口只能用作通用I/O口
①  正确
②  错误
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【单选题】 在下列物质中,不属于常用化工生产基础原料的是( )。
①  空气
②  乙烯
③  天然气
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①  降低沸点
②  增加能耗
③  分解
④  减少设备腐蚀
【单选题】 烃类裂解制乙烯过程正确的操作条件是( )。
①  高温、高压、短时间选项
②  高温、低压、短时间
③  高温、低压、长时间
④  低温、低压、长时间
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①  大于
②  相同
③  小于
④  无法确定
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①  正确
②  错误
【单选题】 影响反应过程的基本原因有( )。
①  温度,压力,原料配比和停留时
②  温度,压力和停留时间
③  温度,压力,原料配比和浓度
④  温度,原料配比和浓度
【单选题】 对于低压下放热的可逆气相反应,温度升高,则平衡常数(??)。
①  减小
②  不能确定
③  不变
④  增大
【单选题】 化工生产过程按其操作方法可分为间歇、连续、半间歇操作。其中属于稳定操作的是(???)。
①  半间歇操作
②  连续操作
③  以上都不是
④  间歇操作
【单选题】 在有催化剂参与的反应过程中,在某一反应周期内,操作温度常采用( )。
①  逐渐升高
②  波浪变化
③  逐渐降低
④  恒定
【单选题】 下列各项中属于分离与提纯操作的是( )。
①  传热
②  萃取
③  吸收