【单选题】【消耗次数：1】
前伸干扰的调合
①
磨改上颌磨牙舌尖的远中斜面和下颌磨牙颊尖的近中斜面
②
磨改上颌磨牙颊尖的远中斜面和下颌磨牙舌尖的近中斜面
③
磨改上颌磨牙颊尖的近中斜面和下颌磨牙颊尖的远中斜面
④
磨改上颌磨牙颊尖的远中斜面和下颌磨牙舌尖的远中斜面
⑤
以上都错
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【单选题】
病例一远中移动上颌磨牙的支抗设计作用是（）
①
防止磨牙远中移动的反作用力，导致上颌双尖牙舌倾
②
防止磨牙远中移动的反作用力，导致上颌前牙舌倾
③
防止磨牙远中移动的反作用力，导致上颌前牙唇倾
④
防止磨牙远中移动的反作用力，导致上颌双尖牙唇倾
⑤
防止磨牙远中移动的反作用力，导致上颌磨牙唇倾
【单选题】
上下颌磨牙的主要区别不正确的是（）
①
上颌磨牙牙冠牙合面呈斜方形；下颌磨牙牙冠牙合面呈长方形
②
上颌磨牙牙冠近远中径大于颊舌径；下颌磨牙牙冠颊舌径大于近远中径
③
上颌磨牙牙冠较直；下颌磨牙牙冠倾向舌侧
④
上颌磨牙的颊尖锐而舌尖钝；下颌磨牙的舌尖锐而颊尖钝
⑤
上颌磨牙多为三根；下颌磨牙多为双根
【单选题】
应用种植支抗进行磨牙远移时，下列说法不正确的是（）
①
最好先拔除第三磨牙
②
上颌可以在颧牙槽嵴处植入种植钉进行整体远移
③
下颌可以在颊棚区植入种植钉进行远移
④
可以利用种植钉牵拉第一磨牙横腭杆，不用纳入第二磨牙
⑤
可以整体远移，也可以分步远移。
【单选题】
4～6岁期间，上下颌第二乳磨牙的远中面的关系是（）
①
下颌第二乳磨牙的远中面移至上颌第二乳磨牙的近中
②
下颌第二乳磨牙的远中面移至上颌第二乳磨牙的远中
③
上下颌第二乳磨牙的远中面彼此相齐，成一垂直平面
④
两者关系不定
⑤
以上都不对
【单选题】
关于下颌第二前磨牙的描述正确的是（）
①
颊尖高大，舌尖特小
②
舌面与颊面相差较大
③
颊面宽于舌面
④
发育沟有“H、Y、W”形三种形态
⑤
若为二舌尖者，其舌面宽于颊面
随机题目
【单选题】
下列关于存储器的叙述中正确的是（）。
①
CPU能直接访问存储在内存的数据，也能直接访问存储在外存中的数据
②
CPU不能直接访问存储在内存的数据，能直接访问存储在外存中的数据
③
CPU只能直接访问存储在内存的数据，不能直接访问存储在外存中的数据
④
CPU既不能直接访问存储在内存的数据，也不能直接访问存储在外存中的数据